Chu Mạnh Nhương Tạp chí KHOA HỌC & CÔNG NGHỆ 102(02): 3 - 7
3
NGHIÊN CỨU ĐIỀU KIỆN TÁCH ZIRCONI VÀ HAFNI TỪ MÔI TRƯỜNG
HClO4 BẰNG CETYLTRIMETYLAMONIBROMUA TRONG BENZEN
Chu Mạnh Nhương*
Trường Đại học Sư phạm – ĐH Thái Nguyên
TÓM TẮT
Bài báo thông báo các kết quả nghiên cứu tách zirconi (Zr) và hafni (Hf) trong môi trường HClO4,
sử dụng tác nhân cetyltrimetylamonibromua (CTAB) và thuốc thử xylen da cam (XO). Trước hết
là kết quả nghiên cứu xác định nồng độ Hf trong cùng hỗn hợp
5 trang |
Chia sẻ: huongnhu95 | Lượt xem: 477 | Lượt tải: 0
Tóm tắt tài liệu Nghiên cứu điều kiện tách zirconi và hafni từ môi trường hclo4 bằng cetyltrimetylamonibromua trong benzen, để xem tài liệu hoàn chỉnh bạn click vào nút DOWNLOAD ở trên
với Zr bằng hiệu ứng che, kết quả
nghiên cứu cho thấy: sử dụng môi trường HClO4 0,038M và H2O2 3,8M có thể che được Zr với
hiệu suất khoảng 88%. Từ đó, xây dựng các đường chuẩn xác định nồng độ (Zr+Hf) và Hf ở các
bước sóng tương ứng là 550,5 nm, 434,5 nm trong khoảng nồng độ tuyến tính đều từ 0,2 đến 1
ppm. Đặc biệt, bài báo đã chỉ ra các kết quả nghiên cứu ảnh hưởng của nồng độ axit, tác nhân chiết
và các muối KClO4, KBr đến khả năng tách Zr/Hf, cụ thể là: sử dụng môi trường chiết là HClO4
0,13M cho hệ số tách (S) khá cao là 9,4; nồng độ CTAB/C6H6 là 0,004M cho hệ số tách là 2,6 và ở
cùng nồng độ 0,015M thì muối KClO4 (với S=4,1) có ảnh hưởng tích cực hơn so với KBr (với
S=2,3) đến khả năng tách Zr/Hf.
Từ khóa: tách, zirconi, hafni, HClO4, CTAB, H2O2, XO.
GIỚI THIỆU*
Zirconi và hafni là cặp nguyên tố đồng hành
(thuộc nhóm IVB, bảng tuần hoàn các nguyên
tố hóa học) có tính chất hóa học rất giống
nhau [1,2]. Vì vậy việc tách chúng ra khỏi
nhau là một vấn đề rất khó khăn. Trên thế
giới, phương pháp chiết lỏng-lỏng là một
trong những phương pháp tách khá phổ biến
và thường kết hợp với phương pháp quang
phổ hấp thụ phân tử [3,4]. Trong các hệ chiết,
các tác nhân: cetyltrimetylamonibromua,
primene JMT, amberlite LA – 1, amberlite
LA – 2, aliquat – 336S, trioctylamin...đã được
nhiều tác giả quan tâm nghiên cứu để tách Zr
và Hf trong các môi trường axit khác nhau
[5,6,7]. Tuy nhiên phức giữa Zr, Hf và các tác
nhân trên thường không có màu trong vùng
UV- Vis, vì vậy khi nghiên cứu tách Zr và Hf
đòi hỏi sử dụng các máy móc rất hiện đại.
Hiện nay, xylen da cam là một thuốc thử hữu
cơ có độ nhạy, độ chọn lọc khá cao để tạo
phức màu đối với các vết vi lượng của các ion
kim loại có số oxi hóa lớn trong đó có Zr(IV),
Hf(IV) [8]. Các phức màu ZrXO, HfXO có
phổ hấp thụ xen phủ nhau. Tuy nhiên tác nhân
H2O2 có thể gây hiệu ứng che sự tạo phức của
Zr mà không che tạo phức của Hf với XO.
Trong bài báo này, chúng tôi sử dụng XO,
*
Tel: 0986 519251, Email: chumanhnhuongkhoahoa@gmail.com
H2O2 để xác định nồng độ Zr, Hf bằng
phương pháp quang phổ hấp thụ phân tử sau
khi chiết chúng bằng CTAB trong môi trường
HClO4.
THỰC NGHIỆM
Thiết bị, dụng cụ, hóa chất
Máy quang phổ UV – Vis 1700 (Nhật Bản).
Phễu chiết và các dụng cụ dùng trong phân
tích thể tích.
Dung dịch chuẩn hỗn hợp (Zr và Hf )20ppm,
CTAB, C6H6, HClO4, XO, H2O2, KClO4, KBr
đều có độ tinh khiết phân tích.
Phương pháp
Phương pháp che: chuẩn bị dung dịch Zr
0,5ppm, Hf 0,5ppm trong môi trường axit
HClO4 0,036M, tiến hành tạo phức màu với
thuốc thử XO 0,05%. Chia dung dịch thành 2
phần bằng nhau. Phần 1: thêm H2O2 để che
phức ZrXO, sau đó đo độ hấp thụ quang của
HfXO ở bước sóng 434,5nm. Phần 2: thêm
HClO4 0,036M đến thể tích bằng phần 1, sau
đó đo độ hấp thụ quang của dung dịch (ZrXO
+ HfXO) ở bước sóng 550,5nm [7].
Xây dựng đường chuẩn: để xác định nồng độ
Hf và (Zr+Hf), chúng tôi đo độ hấp thụ quang
của dung dịch (ZrXO+HfXO) có nồng độ từ
0,2 đến 1 ppm trong môi trường HClO4
Chu Mạnh Nhương Tạp chí KHOA HỌC & CÔNG NGHỆ 102(02): 3 - 7
4
0,036M có và không có H2O2 ở bước sóng
tương ứng là 434,5nm, 550,5nm.
Phương pháp chiết: với mỗi thí nghiệm chiết
sử dụng pha nước là hỗn hợp Zr 0,5 ppm, Hf
0,5ppm trong môi trường HClO4 ; tỉ lệ pha
nước và pha hữu cơ là 1:1; thời gian lắc và
cân bằng hai pha đều là 20 phút [5,6]. Sau khi
tách hai pha, lấy pha nước thực hiện phản ứng
tạo màu với XO, chia dung dịch thành hai
phần bằng nhau. Phần 1 để xác định nồng độ
(Zr + Hf), phần 2 để xác định nồng độ Hf trên
cơ sở đo độ hấp thụ quang của các dung dịch
màu. Các giá trị độ hấp thụ quang được dùng
để tính hiệu suất chiết (%Ex), hệ số phân bố
(D), hệ số tách (S) của Zr và Hf.
KẾT QUẢ VÀ THẢO LUẬN
Khảo sát các điều kiện đo độ hấp thụ
quang của phức ZrXO, HfXO
Tiến hành đo phổ hấp thụ quang của thuốc
thử và phức màu khi có và không có H2O2.
Kết quả được chỉ ra ở hình 1.
Từ hình 1 cho thấy: Thuốc thử XO và các
phức ZrXO, HfXO trong môi trường HClO4
khi không có H2O2 cho bước sóng hấp thụ cực
đại lần lượt là 544nm, 550,5nm; còn khi dung
dịch có thêm H2O2 thì tương ứng là 436 nm,
434,5 nm. Như vậy, khi không có hoặc có
H2O2 thì lượng dư thuốc thử XO đều ảnh
hưởng đến việc xác định Zr, Hf.
Kết quả xác định nồng độ thuốc thử XO cho
thấy với giá trị XO 5,7.10-5M thì kết quả xác
định Zr, Hf cho độ tin cậy và độ lặp lại cao.
Khi tăng nồng độ HClO4 từ 0,030 đến
0,075M thì độ hấp thụ quang của XO có xu
hướng tăng. Tuy nhiên khi tăng nồng độ
HClO4 từ 0,006 đến 0,094M thì độ hấp thụ
quang của dung dịch (ZrXO+HfXO) có xu
hướng giảm. Chúng tôi nhận thấy môi trường
HClO4 0,036M thì độ hấp thụ quang của dung
dịch ZrXO, HfXO có giá trị khá lớn và ảnh
hưởng lượng dư XO là ít nhất. Do đó chúng
tôi chọn môi trường HClO4 0,036M để đo độ
hấp thụ quang của các phức ZrXO, HfXO ở
bước sóng 550,5nm..
Khi tăng nồng độ H2O2 trong khoảng 1,3 đến
3,2 M thì độ hấp thụ quang của dung dịch
ZrXO, HfXO giảm, và không đổi khi nồng độ
của H2O2 lớn hơn 3,8M. Vì vậy, để xác định
nồng độ Hf chúng tôi chọn môi trường có
H2O2 3,8M để che Zr (hiệu suất che 88%).
Hình 1: Phổ UV –Vis của thuốc thử XO, phức ZrXO và HfXO
(hệ a: (XO 5,7.10-5 M: HClO4 0,073M); b: (XO 5,7.10-5 M: HClO4 0,073M: H2O2 3,8M); c: (Zr 0,5ppm:
Hf 0,5ppm: XO 5,7.10-5 M: HClO4 0,073M); d: (Zr 0,5ppm: Hf 0,5ppm: XO 5,7.10-5 M: HClO4 0,073M:
H2O2 3,8M)
Xây dựng đường chuẩn xác định nồng độ (Zr + Hf) và Hf
Kết quả được chỉ ra ở hình 2.
b
d
a
c
a - Phổ UV- Vis XO;
b - Phổ UV- Vis (XO,H2O2);
c - Phổ UV- Vis (ZrXO, HfXO).
d - Phổ UV- Vis (ZrXO,HfXO,H2O2).
Chu Mạnh Nhương Tạp chí KHOA HỌC & CÔNG NGHỆ 102(02): 3 - 7
5
Khảo sát điều kiện tối ưu khi chiết Zr, Hf từ môi trường HClO4 bằng CTAB trong C6H6
Các kết quả chỉ ra từ bảng 1 đến bảng 4.
Bảng 1: Ảnh hưởng của nồng độ HClO4 đến %Ex, S của Zr và Hf
STT 1 2 3 4 5 6
HClO4 M 0,036 0,060 0,110 0,13 0,16 0,18
A(λ = 550,5 nm)
0,189 0,084 0,220 0,224 0,108 0,163
A(λ = 434,5 nm)
0,113 0,078 0,123 0,115 0,08 0,115
%Ex(Zr)
23,99 56,62 14,14 6,81 45,25 39,02
%Ex(Hf)
41,22 64,03 37,70 39,92 62,72 39,02
DZr 0,31 1,30 0,16 0,07 0,83 0,64
DHf 0,70 1,78 0,61 0,66 1,68 0,64
S (=DZr/DHf hoặc DHf/DZr) 2,3 1,4 3,8 9,4 2,0 1,0
(Hệ chiết: Zr 0,5ppm, Hf 0,5ppm; CTAB 0,038 M trong C6H6)
Từ bảng 1 cho thấy: trong khoảng nồng độ HClO4 từ 0,036 đến 0,18 M, hiệu suất chiết của Hf
luôn cao hơn hiệu suất chiết của Zr. Trong môi trường HClO4 0,13 M hệ số tách Zr và Hf là lớn
nhất (S = 9,4), như vậy môi trường HClO4 0,13 M là điều kiện tối ưu để tách Zr và Hf.
Bảng 2: Ảnh hưởng của nồng độ CTAB trong C6H6 đến %Ex, S của Zr và Hf
STT 1 2 3 4 5 6 7 8
CTAB/C6H6 M 0,001 0,004 0,01 0,015 0,02 0,023 0,027 0,038
A(λ = 550,5 nm) 0,118 0,137 0,120 0,140 0,128 0,134 0,093 0,012
A(λ = 434,5 nm) 0,094 0,123 0,082 0,106 0,096 0,106 0,087 0,097
%Ex(Zr)
65,57 57,91 40,27 42,04 44,89 43,05 57,98 50,78
%Ex(Hf)
53,60 34,70 61,42 49,30 52,36 45,78 57,97 51,65
DZr 1,90 1,38 0,67 0,73 0,81 0,77 1,38 1,03
DHf 1,16 0,53 1,59 0,97 1,10 0,84 1,38 1,07
S (=DZr/DHf hoặc DHf/DZr) 1,2 2,6 2,3 1,3 1,4 1,1 1,0 1,0
(Hệ chiết: Zr 0,5ppm, Hf 0,5ppm; HClO4 0,18 M)
Kết quả ở bảng 2 cho thấy: khi tăng nồng độ CTAB trong C6H6 từ 0,001M đến 0,038 M thì hệ số
tách (S) tăng từ 1,2 đến 2,6 và sau đó giảm dần đến 1. Giá trị hệ số tách lớn nhất S = 2,6 đạt được
khi nồng độ của CTAB bằng 0,004M. Khi tăng nồng độ CTAB đến 0,038 M thì hệ số tách giảm
xuống 1. Do đó trong các thí nghiệm tiếp theo, chúng tôi sử dụng giá trị nồng độ của CTAB là
0,038M.
Bảng 3: Ảnh hưởng của nồng độ KClO4 đến %Ex, S của Zr và Hf
STT 1 2 3 4 5 6 7
KClO4, M 0 0,005 0,0075 0,01 0,013 0,015 0,018
A(λ = 550,5 nm) 0,118 0,168 0,143 0,173 0,167 0,188 0,2
A(λ = 434,5 nm) 0,097 0,113 0,124 0,132 0,129 0,148 0,129
%Ex(Zr)
50,56 34,39 55,17 44,35 46,03 47,48 28,61
%Ex(Hf)
51,97 41,48 34,38 29,70 30,79 18,48 30,79
DZr 1,16 0,52 1,23 0,80 0,85 0,90 0,40
DHf 1,08 0,71 0,52 0,42 0,44 0,22 0,44
S (=DZr/DHf hoặc DHf/DZr) 1,1 1,4 2,4 1,9 1,9 4,1 1,1
(Hệ chiết: Zr 0,5ppm, Hf 0,5ppm; HClO4 0,18 M; CTAB 0,038 M trong C6H6)
y = 0,3788x - 0,0663
R2 = 0,9861
y = 0,3069x + 0,0228
R2 = 0,9942
0
0.05
0.1
0.15
0.2
0.25
0.3
0.35
0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1 1.1
A
nồng độ, ppm
Hình 2: Các đường chuẩn xác định nồng độ (Zr + Hf) và nồng độ Hf
Zr + Hf
Hf
Chu Mạnh Nhương Tạp chí KHOA HỌC & CÔNG NGHỆ 102(02): 3 - 7
6
Bảng 4: Ảnh hưởng của nồng độ KBr đến %Ex, S của Zr và Hf
STT 1 2 3 4 5 6 7 8
KBr, M
0 0,005 0,0075 0,01 0,013 0,015 0,018 0,02
A(λ = 550,5 nm) 0,118 0,168 0,126 0,130 0,148 0,191 0,129 0,129
A(λ = 434,5 nm) 0,093 0,123 0,114 0,118 0,100 0,113 0,095 0,095
%Ex(Zr)
48,44 42,03 57,73 58,50 37,94 22,93 44,59 43,61
%Ex(Hf)
54,25 34,69 40,63 37,76 49,39 41,22 52,93 53,06
DZr 0,94 0,73 1,37 1,41 0,61 0,30 0,80 0,77
DHf 1,19 0,53 0,68 0,61 0,98 0,70 1,12 1,13
S (=DZr/DHf hoặc DHf/DZr) 1,3 1,4 2,0 2,3 1,6 2,3 1,4 1,5
(Hệ chiết: Zr 0,5ppm: Hf 0,5ppm: HClO4 0,18 M: CTAB 0,038 M trong C6H6)
Bảng 3 và bảng 4 cho thấy: các muối KClO4
và KBr đều có ảnh hưởng tích cực đến hệ số
tách Zr và Hf. Trong đó hệ số tách Zr/Hf tăng
mạnh nhất khi nồng độ của KClO4 là 0,015M
với S = 4,1 và khi tiếp tục tăng nồng độ
KClO4 thì hệ số tách giảm xuống gần 1.
Trong khoảng nồng độ khảo sát của KBr từ
0,005 đến 0,02M, chúng tôi nhận thấy hệ số
tách S lớn nhất tại hai giá trị nồng độ của KBr
là 0,01 và 0,015M đều cho S=2,3. Ở cùng
nồng độ 0,015 M thì KClO4 cho hệ số tách S
lớn hơn so với KBr. Chính vì vậy chúng tôi
nhận thấy KClO4 có ảnh hưởng của tích cực
hơn đến việc tách Zr và Hf.
KẾT LUẬN
1. Đã xác định được các điều kiện thích hợp
để che Zr trong hệ (Zr 0,5ppm+Hf 0,5ppm) là
XO 5,7.10-5 M, có mặt H2O2 3,8 M trong môi
trường HClO4 0,036M, với các điều kiện trên
thì hiệu suất che Zr đạt 88%.
2. Đã xây dựng các đường chuẩn xác định
nồng độ của (Zr + Hf) và Hf trong môi trường
HClO4 0,036 M với khoảng nồng độ tuyến
tính đều từ 0,2 đến 1 ppm tại các bước sóng
lần lượt là 550,5nm, 434,5nm và hệ số tương
quan mẫu tương ứng là R2 = 0,9861 và R2 =
0,9942.
3. Đã xác định các điều kiện tối ưu đến việc
tách Zr và Hf. Các điều kiện đó là: nồng độ
của HClO4 0,13M; nồng độ của CTAB
0,004M trong C6H6; nồng độ của KClO4 là
0,015 M; nồng độ KBr là 0,01 và 0,015 M.
Muối KClO4 có ảnh hưởng tích cực hơn KBr
đến khả năng tách Zr và Hf.
TÀI LIỆU THAM KHẢO
[1]. Hoàng Nhâm, Hóa vô cơ T3, Nxb GD, 2001.
[2]. R.A.Lidin, V.A.Mororosco, L.L.Anđena. Tính
chất lí hóa các chất vô cơ, Nxb Khoa học và kĩ
thuật Hà Nội, 2001.
[3]. Hồ Viết Quý, Các phương pháp phân tích
công cụ trong hóa học hiện đại, Nxb ĐHSP, 2002
[4]. Trấn Tứ Hiếu, Phân tích quang phổ hấp thụ
UV-VIS, Nxb ĐHQGHN, 2001.
[5]. I.S.E.L-Yamani,M.Y.Farah và
F.A.A.B.D.Leim (1978), Co-extraction and
separation of zirconium and hafnium by long-
chain amines from sulphate media, .Egypt.
[6]. C.P.Vibhute và S.M.Khopkar (1986),
liquid/liquid extraction separation of hafnium with
amberlite LA-1 from zirconium and other elements
in citric acid solutions, Idian.
[7]. K.L.Cheng (1962), determination of
zirconium and hafnium with xylenol orange and
methylthymol blue,USA .
[8]. K.L.Cheng (1958), Analytical applications of
xylenol orange-Determination of traces,USA .
Chu Mạnh Nhương Tạp chí KHOA HỌC & CÔNG NGHỆ 102(02): 3 - 7
7
SUMMARY
RESEACH ON CONDITIONS FOR SEPARATION OF ZIRCONIUM
AND HAfNIUM FROM PERCHLORIC ACID MEDIUM
BY CETYLTRIMETYLAMONIBROMUA IN BENZENE
Chu Manh Nhuong*
College of Education - TNU
The article introducied results of reseaching of determination of hafnium (Hf) in mixture with
zirconium (Zr) by a masking agent and use dye xylenol orange (XO). These were: use HClO4
0,038M and H2O2 3,8M which cant maske Zr, the efficiency is above 88%. The second, these
established calibration curves for the determination of (Zr + Hf) and Hf at 550,5nm and 434,5nm,
concentration was from 0,2 to 1 ppm. Special, reseaching an influence concentration of acid,
extractant, some salt, these were: HClO4 0,13M with the separation (S) was 9,4; CTAB 0,004M in
C6H6 with for extraction of Zr, Hf by CTAB in C6H6 was 2,6; the concentration is 0,015M, the
effect of KClO4 (S=4,1) to the separation of Zr and Hf was higher than that of KBr (S=2,3).
Keyword: separation, zirconium, hafnium, HClO4, CTAB, H2O2, XO.
Ngày nhận bài: 05/6/2012, ngày phản biện: 18/6/2012, ngày duyệt đăng:26/3/2013
*
Tel: 0986 519251, Email: chumanhnhuongkhoahoa@gmail.com
Các file đính kèm theo tài liệu này:
- nghien_cuu_dieu_kien_tach_zirconi_va_hafni_tu_moi_truong_hcl.pdf